本發(fā)明公開(kāi)了一種等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備,通過(guò)在等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備中添加等離子體探針、氣相檢測(cè)系統(tǒng)和控制及反饋系統(tǒng)來(lái)實(shí)時(shí)檢測(cè)并調(diào)控真空腔室內(nèi)的氣體組分和等離子體密度,以達(dá)到提高成膜質(zhì)量和提高成膜速率的效果。
聲明:
“等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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