本發(fā)明提供了一種適于向半導(dǎo)體制造設(shè)施中的化學(xué)機(jī)械平面化(CMP)工具或其它工具提供料漿和/或化學(xué)共混物的料漿和/或化學(xué)共混物供給裝置、相關(guān)工藝、使用方法和制造方法。所述料漿和/或化學(xué)共混物供給裝置包括以下的一者或多者:進(jìn)料模塊、共混模塊、分析模塊和分配模塊。
聲明:
“料漿和/或化學(xué)共混物供給裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)