本公開實(shí)施例提供一種用于化學(xué)機(jī)械研磨系統(tǒng)的平臺。上述平臺包括在平臺之中的一或多個(gè)凹部,以安置用于研磨/平坦化工藝的各種構(gòu)件。平臺包括第一凹部以及第二凹部。第一凹部位于第二凹部之下。終點(diǎn)檢測器放置在第一凹部中,且檢測器蓋可被放置在第二凹部中。密封裝置被提供在終點(diǎn)檢測器與檢測器蓋之間的空間,以防止任何外部或外來的材料接觸終點(diǎn)檢測器。拴件被用以將檢測器蓋拴至平臺,也提供附加的防護(hù)以防止外來的材料接觸被容納在凹部的構(gòu)件。
聲明:
“用于化學(xué)機(jī)械研磨系統(tǒng)的平臺” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)