一種化學(xué)機械拋光系統(tǒng),包括:前端模塊(101),所述前端模塊用于存儲和/或檢測晶圓;多個拋光單元(102,103,104,105),多個所述拋光單元并排設(shè)置,且至少一個鄰近所述前端模塊;拋光機械手(107,109),所述拋光機械手設(shè)在多個所述拋光單元之間用以傳遞晶圓;后清洗單元(108,110),所述后清洗單元與所述拋光單元和所述前端模塊均相連,且設(shè)置為清洗時晶圓縱置;中轉(zhuǎn)機械手(408),所述中轉(zhuǎn)機械手用于將晶圓在所述拋光單元與所述后清洗單元之間順次傳遞。化學(xué)機械拋光系統(tǒng)生產(chǎn)效率高,工藝流程更加靈活,清洗效果更好,且后清洗單元的體積小,結(jié)構(gòu)緊湊。
聲明:
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