本實(shí)用新型公開(kāi)了一種晶圓用化學(xué)刻蝕設(shè)備,包括刻蝕槽,刻蝕槽內(nèi)放置有晶圓放置架,晶圓放置架上排列有晶圓,晶圓放置架包括相對(duì)豎直設(shè)置的主支架,滑動(dòng)設(shè)置在主支架底部的支撐拉板以及橫向設(shè)置在主支架中部的輔助支架,輔助支架上鉸接有多個(gè)用于定位晶圓側(cè)邊的槽塊,刻蝕槽底部與中轉(zhuǎn)槽體通過(guò)進(jìn)液管道以及出液管道循環(huán)連接,進(jìn)液管道橫向設(shè)置且其上設(shè)有氣泡檢測(cè)傳感器,所述出液管道上設(shè)有循環(huán)泵??涛g均勻性好,可以防止二次刻蝕。
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