本發(fā)明涉及一種化學(xué)氣相沉積腔室。本發(fā)明的化學(xué)氣相沉積腔室包括:腔室,設(shè)于腔室內(nèi)上部的擴散板,設(shè)于腔室內(nèi)下部的加熱板,以及與腔室連通以向腔室輸送工藝氣體的氣體源;所述擴散板由多個呈陣列均勻分布的子擴散板組成,所述加熱板由對應(yīng)的多個呈陣列均勻分布的子加熱板組成,所述腔室設(shè)有對應(yīng)的多個氣體及射頻輸送位置以在腔室內(nèi)對應(yīng)的位置輸送工藝氣體及射頻,所述氣體及射頻輸送位置的中心與對應(yīng)的子擴散板和子加熱板的中心對應(yīng)。本發(fā)明的化學(xué)氣相沉積腔室使成膜均一性更優(yōu),提高工藝可控性及穩(wěn)定性;化學(xué)氣相沉積的關(guān)鍵部件更換以及檢修更加方便;化學(xué)氣相沉積的關(guān)鍵部件部分損壞后可進(jìn)行更換,無需整體報廢,降低運營成本。
聲明:
“化學(xué)氣相沉積腔室” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)