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識(shí)別激光輻射后單層TMDs中物理和化學(xué)吸附方法

878   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 07:00:50
本發(fā)明公開(kāi)了一種識(shí)別激光輻射后單層TMDs中物理和化學(xué)吸附方法;將單層TMDs在常壓和真空環(huán)境下分別進(jìn)行光致發(fā)光強(qiáng)度測(cè)量得PLA0和PLB0;再對(duì)其進(jìn)行激光輻照后在真空環(huán)境下測(cè)試獲取PLB1;隨后,利用環(huán)境空氣回填至常壓后測(cè)試獲取PLA1;分別將PLA0和PLA1,PLB0和PLB1進(jìn)行歸一化,分別做差獲得常壓/真空時(shí)的ΔPL1和ΔPL2;在光致發(fā)光過(guò)程中,物理吸附比例=(ΔPL1?ΔPL2)/ΔPL1,化學(xué)吸附比例=1?物理吸附比例。本發(fā)明識(shí)別了化學(xué)吸附和物理吸附分別對(duì)熒光強(qiáng)度做出貢獻(xiàn)的組份并且通過(guò)計(jì)算判斷了二者在激光輻照增強(qiáng)單層TMDs光致發(fā)光過(guò)程中誰(shuí)做出了更主要的貢獻(xiàn),該研究還揭示了化學(xué)和物理吸附在增強(qiáng)單層TMDs光致發(fā)光強(qiáng)度中的協(xié)同效應(yīng)。
聲明:
“識(shí)別激光輻射后單層TMDs中物理和化學(xué)吸附方法” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專(zhuān)利(論文)的發(fā)明人(作者)
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