本發(fā)明公開(kāi)了一種識(shí)別激光輻射后單層TMDs中物理和化學(xué)吸附方法;將單層TMDs在常壓和真空環(huán)境下分別進(jìn)行光致發(fā)光強(qiáng)度測(cè)量得PL
A0和PL
B0;再對(duì)其進(jìn)行激光輻照后在真空環(huán)境下測(cè)試獲取PL
B1;隨后,利用環(huán)境空氣回填至常壓后測(cè)試獲取PL
A1;分別將PL
A0和PL
A1,PL
B0和PL
B1進(jìn)行歸一化,分別做差獲得常壓/真空時(shí)的ΔPL
1和ΔPL
2;在光致發(fā)光過(guò)程中,物理吸附比例=(ΔPL
1?ΔPL
2)/ΔPL
1,化學(xué)吸附比例=1?物理吸附比例。本發(fā)明識(shí)別了化學(xué)吸附和物理吸附分別對(duì)熒光強(qiáng)度做出貢獻(xiàn)的組份并且通過(guò)計(jì)算判斷了二者在激光輻照增強(qiáng)單層TMDs光致發(fā)光過(guò)程中誰(shuí)做出了更主要的貢獻(xiàn),該研究還揭示了化學(xué)和物理吸附在增強(qiáng)單層TMDs光致發(fā)光強(qiáng)度中的協(xié)同效應(yīng)。
聲明:
“識(shí)別激光輻射后單層TMDs中物理和化學(xué)吸附方法” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專(zhuān)利(論文)的發(fā)明人(作者)