本實(shí)用新型涉及一種用于局部
電化學(xué)研究的電解池。本實(shí)用新型所述電解池包括電解槽和電極插槽,所述電解槽的左側(cè)壁上包括豎直設(shè)置的第一氣道、第二氣道和水平設(shè)置的第一側(cè)氣道、第二側(cè)氣道;所述第一氣道、第二氣道分別與第一側(cè)氣道、第二側(cè)氣道連通設(shè)置;第一氣道和第一側(cè)氣道組成的氣路可以向電解槽內(nèi)液面上通入指定氣體;第二氣道和第二側(cè)氣道組成的氣路可以向電解槽內(nèi)液面下通入指定的氣體。本實(shí)用新型所述電解池通過配置相應(yīng)形狀的電極底座,可用于不同形狀材料的常規(guī)電化學(xué)測量以及局部電化學(xué)測試,如果需要測量不同形狀的材料,只需改變底座和電極帽的形狀,避免了針對不同材料形狀另外設(shè)計(jì)電解池。
聲明:
“用于局部電化學(xué)研究的電解池” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)