本發(fā)明公開了一種化學(xué)機械拋光控制方法及控制系統(tǒng),所述化學(xué)機械拋光控制方法包括:使用具有多個壓力腔室的承載頭拋光晶圓,所述壓力腔室將晶圓表面對應(yīng)劃分為多個分區(qū),控制所述壓力腔室的拋光參數(shù)以調(diào)節(jié)晶圓各個分區(qū)的形貌;所述分區(qū)設(shè)定有多個采集點,加權(quán)處理所述分區(qū)中采集點的測量值,根據(jù)加權(quán)處理的測量值計算晶圓的實測形貌;比對晶圓的實測形貌與目標(biāo)形貌的差異,優(yōu)化所述壓力腔室對應(yīng)的拋光參數(shù)。
聲明:
“化學(xué)機械拋光控制方法及控制系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)