本發(fā)明涉及一種提高光
電化學(xué)分解水光陰極銅鋅錫硫薄膜質(zhì)量的方法,屬于光電化學(xué)分解水光陰極材料制備技術(shù)領(lǐng)域。溶液旋涂法制備銅鋅錫硫預(yù)制膜;在預(yù)制膜上表面插入摻氟的富錫修飾層;快速退火爐中高溫硫化處理,調(diào)控升降溫中吹掃氮氣氣流量;對硫化后銅鋅錫硫薄膜進行CdS及Pt助催化劑修飾,制備光電化學(xué)分解水光陰極,測試其光電化學(xué)分解水性能。本發(fā)明獲得無孔、大晶粒垂直貫穿、且附著牢固的高質(zhì)量銅鋅錫硫薄膜材料,可有效抑制硫化亞銅、硫化鋅、過量硫單質(zhì)等雜相在薄膜表面的吸附,避免常用的溶劑刻蝕去雜質(zhì)處理方法對薄膜的傷害,將此薄膜應(yīng)用到光電化學(xué)分解水體系,其光電化學(xué)分解水能力得到顯著提升。
聲明:
“提高光電化學(xué)分解水光陰極銅鋅錫硫薄膜質(zhì)量的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)