本實用新型揭示了一種用于化學(xué)氣相淀積反應(yīng)器及其反應(yīng)腔。其中,加熱裝置由若干單獨測控的扇形加熱單元組成,在所述扇形加熱單元之間可以放置襯底載盤支撐或反應(yīng)腔頂蓋支撐。所述加熱裝置具有結(jié)構(gòu)簡單,操作與維修方便,制造和使用成本低等優(yōu)點,適用于大直徑化學(xué)氣相淀積反應(yīng)器反應(yīng)腔中加熱環(huán)形或圓形或由若干扇形襯底載盤單元組成的環(huán)形或圓形襯底載盤。
聲明:
“化學(xué)氣相淀積反應(yīng)器及反應(yīng)腔” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)