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化學氣相沉積裝置及其溫控方法

801 編輯：管理員來源：中冶有色技術網(wǎng)

2023-03-19 07:02:27

一種化學氣相沉積裝置，包括：反應腔；設置于所述反應腔底部的基座，用于支撐一個或多個待處理基片；用于加熱所述基座與基片的加熱單元；設置于所述反應腔頂部的氣體噴淋組件，包括第一進氣裝置和第二進氣裝置，所述氣體噴淋組件與所述基座之間形成反應區(qū)；設置于氣體噴淋組件上用于封閉反應腔并包含冷卻裝置的蓋體；所述蓋體和所述氣體噴淋組件之間形成有狹縫；第一溫度測量裝置，用于測量氣體噴淋組件溫度；溫控供氣裝置，用于對A與B兩種氣體進行配比并根據(jù)測量的氣體噴淋組件溫度供應配比后的氣體至所述狹縫。本發(fā)明通過調節(jié)氣體噴淋組件與反應腔體冷卻部件間的氣體比例，實現(xiàn)氣體噴淋組件溫度的精確控制。

聲明：

“化學氣相沉積裝置及其溫控方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)