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化學(xué)機械研磨裝置用研磨漿調(diào)制供給裝置和方法

1136   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 07:02:27
提供一種研磨漿調(diào)制供給裝置及方法,即使在從暫時停止的狀態(tài)再開始供給研磨漿時的初始階段,也可以高精度地維持研磨漿的混合比例。該研磨漿調(diào)制供給裝置包括分別用于吸引所述各液的對應(yīng)于各液數(shù)目的吸引口、以及向化學(xué)機械研磨裝置供給研磨漿的排出口;在從各吸引口至排出口的各液的供給路徑上,從各吸引口按基于混合比例的特定量吸引各液,分別配置用于將吸引出的各液向排出口側(cè)排出的供給泵,在各個供給泵的排出側(cè)供給路徑上同時設(shè)置阻尼器和加壓閥,而且,設(shè)置用于測定來自設(shè)置于這些下流側(cè)的各供給泵的排出量的流量計,以及使用來自該流量計的測定值來控制供給泵的排出流量的運算-控制電路。
聲明:
“化學(xué)機械研磨裝置用研磨漿調(diào)制供給裝置和方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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