一種用于化學(xué)機械拋光的設(shè)備包含:平臺,所述平臺具有表面以支撐拋光墊;承載頭,所述承載頭固持基板抵靠拋光墊的拋光表面;墊調(diào)節(jié)器,所述墊調(diào)節(jié)器將研磨主體壓靠在拋光表面上;原位拋光墊監(jiān)視系統(tǒng),所述原位拋光墊監(jiān)視系統(tǒng)包含設(shè)置在平臺上方的成像器以捕獲拋光墊的圖像;以及控制器,所述控制器被配置成接收來自監(jiān)視系統(tǒng)的圖像并且基于所述圖像生成拋光墊表面粗糙度的測量。控制器可使用基于機器學(xué)習(xí)的圖像處理來生成表面粗糙度的測量。
聲明:
“監(jiān)視化學(xué)機械拋光中的拋光墊紋理” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)