本發(fā)明的一種激光直接成像設(shè)備正反面成像對位誤差的檢測方法,可解決現(xiàn)有的檢測方法效率低下而且檢測精度低的技術(shù)問題。包括S10、向產(chǎn)品的A面圖形邊緣添加對位檢測標(biāo)記MARK?A;S20、向產(chǎn)品的B面圖形邊緣添加對位檢測標(biāo)記MARK?B,MARK?A與MARK?B中心對齊;S30、向產(chǎn)品基板的對稱兩板邊固定兩條與基板等厚度的透明材質(zhì);S40、安裝并調(diào)試基板;S50、對基板A面進行曝光成像;S60、對基板進行左右翻版;S70、對基板B面進行曝光成像;S80、CCD圖像處理系統(tǒng)抓取MARK?A中心坐標(biāo);S90、CCD圖像處理系統(tǒng)抓取MARK?B中心坐標(biāo);S100、計算MARK?A與MARK?B中心坐標(biāo)誤差值。本發(fā)明省去了化學(xué)顯影化學(xué)蝕刻化學(xué)退膜和X?Ray照射、顯微鏡測量等步驟,提高了檢測效率和準確性。
聲明:
“激光直接成像設(shè)備正反面成像對位誤差的檢測方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)