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氮氧化硅薄膜的等離子處理程度的光學檢測方法

1024   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 07:17:28
一種氮氧化硅薄膜的等離子處理程度的光學檢測方法,包括先用化學汽相沉積法在半導體晶片上沉積氮氧化硅薄膜,然后對其進行等離子處理,最后利用光學檢測方法對氮氧化硅薄膜的等離子處理程度進行光學檢測。根據(jù)氮氧化硅薄膜的折射率或反射率的變化判斷其等離子處理的程度。
聲明:
“氮氧化硅薄膜的等離子處理程度的光學檢測方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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