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干法刻蝕機(jī)臺(tái)的設(shè)備前端模塊的顆粒堆積物清理檢測(cè)系統(tǒng)

745   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 07:17:28
本實(shí)用新型提供一種干法刻蝕機(jī)臺(tái)的設(shè)備前端模塊的顆粒堆積物清理檢測(cè)系統(tǒng),包括:檢測(cè)盒,設(shè)置在干法刻蝕機(jī)臺(tái)的設(shè)備前端模塊上;酸性指示劑,裝填在檢測(cè)盒之內(nèi),能夠吸附設(shè)備前端模塊的顆粒堆積物并且與顆粒堆積物產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng);PH值探測(cè)器,安裝在檢測(cè)盒上并且能夠與酸性指示劑相接觸,以檢測(cè)酸性指示劑的PH值;控制面板,與PH值探測(cè)器連接,用于接收PH值探測(cè)器的檢測(cè)值,控制面板將檢測(cè)值與預(yù)設(shè)值相比較,以判斷是否需要對(duì)干法刻蝕機(jī)臺(tái)的設(shè)備前端模塊的顆粒堆積物進(jìn)行清理。本實(shí)用新型避免了過早及滯后對(duì)顆粒堆積物進(jìn)行清理造成的不利影響,降低了人工成本、提高了干法刻蝕機(jī)臺(tái)的利用率,提高了晶圓刻蝕工藝的效率和質(zhì)量。
聲明:
“干法刻蝕機(jī)臺(tái)的設(shè)備前端模塊的顆粒堆積物清理檢測(cè)系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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