本發(fā)明公開了一種基于電位調(diào)控溶出伏安法的痕量金屬離子檢測(cè)方法,先用
電化學(xué)方法將待測(cè)液中金屬離子富集沉積到惰性工作電極表面;然后通過電位調(diào)控,在短時(shí)間內(nèi)施加一適當(dāng)電位,使干擾離子預(yù)先溶出;最后再用伏安法進(jìn)行待測(cè)金屬離子的溶出,并記錄溶出伏安曲線。與常規(guī)的溶出伏安法相比,使用本發(fā)明方法對(duì)溶液中痕量金屬離子進(jìn)行檢測(cè)時(shí),檢測(cè)限最低可以大幅度降低到1.0×10-9g/L級(jí)別。在連續(xù)測(cè)定時(shí)的重現(xiàn)性、穩(wěn)定性及可靠性也可大大提高。該方法可以應(yīng)用于海水、地表水、工業(yè)廢水等水溶液,以及其它非水溶液物質(zhì)(如食品、電子產(chǎn)品、有機(jī)物品等)經(jīng)過消化后的水溶液中痕量金屬離子含量的檢測(cè)。
聲明:
“基于電位調(diào)控溶出伏安法的痕量金屬離子檢測(cè)方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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