本發(fā)明涉及一種可檢測自適應壓力調(diào)整器泄露狀態(tài)的設(shè)備,例如是一種化學干法蝕刻設(shè)備。所述設(shè)備設(shè)置有處理腔對置于該處理腔內(nèi)的晶圓或基板進行加工處理,還設(shè)置有通過抽氣管道與所述處理腔連通進行抽氣的干式抽氣泵;所述抽氣管道上依次設(shè)置有自適應壓力調(diào)整器和隔離閥,使來自所述處理腔的氣體,先流過所述自適應壓力調(diào)整器,再通到所述隔離閥。通過改變自適應壓力調(diào)整器與隔離閥在抽氣管道上的排布順序,能夠在對處理腔的日行檢測中,完成對自適應壓力調(diào)整器泄露情況的檢測,減少由此泄露帶來的產(chǎn)品質(zhì)量隱患。
聲明:
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