一種用于處理一個(gè)或多個(gè)平板顯示器基板的等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)的方法與裝置,該裝置包含一用來(lái)容納氣體的真空淀積腔、一用來(lái)分析該反應(yīng)腔內(nèi)氣體并提供反饋的殘余氣體分析器以及一用來(lái)監(jiān)控來(lái)自該氣體分析器的反饋的控制器。一種用來(lái)辨識(shí)一用于處理一個(gè)或多個(gè)平板顯示器基板的等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)中的制程干擾的方法,該方法包括:測(cè)定作為時(shí)間函數(shù)的分壓曲線的過(guò)去斜率;根據(jù)通過(guò)一殘余氣體分析器所測(cè)得的分壓測(cè)量值來(lái)計(jì)算出一新的曲線斜率;比較該過(guò)去斜率與新斜率;以及發(fā)送一信號(hào)給一操作者。
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“氣體泄漏探測(cè)器及制程氣體監(jiān)控” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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