本發(fā)明屬于氫滲透
電化學(xué)測量領(lǐng)域,具體地說是一種測試純鈦表觀氫擴(kuò)散系數(shù)的裝置及測量方法。所述裝置主要包括充氫系統(tǒng)的第一電解池、第二電解池以及測氫系統(tǒng)的第三電解池。其中雙面工作電極0.01~0.1mm厚的b形鈦片安裝在第二電解池與第三電解池之間,試樣尾部充當(dāng)導(dǎo)線,在第一電解池與第二電解池之間設(shè)有質(zhì)子交換膜。本發(fā)明所提供的三電解池裝置及方法可測試低溫下純鈦在多種介質(zhì)環(huán)境下不同溫度表觀氫擴(kuò)散系數(shù),測試溫度范圍為25~100℃,測試溫度精確到±1℃,采用超薄的鈦箔作為工作電極,工作電極無需鍍鎳,使用質(zhì)子交換膜防止了輔助電極反應(yīng)產(chǎn)物對工作電極反應(yīng)的干擾,能夠在相對較短時間測得低溫下氫在純鈦中的表觀擴(kuò)散系數(shù),成本低,操作方便,測定結(jié)果準(zhǔn)確且穩(wěn)定的特點(diǎn)。
聲明:
“測試純鈦表觀氫擴(kuò)散系數(shù)的裝置及測量方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)