本發(fā)明公開了一種氧化鈦薄膜激光探測器及其制備方法,屬于光電探測器件制造技術(shù)領(lǐng)域。該激光探測器包括襯底和沉積在襯底上的氧化鈦薄膜,所述氧化鈦薄膜為四方金紅石型晶體結(jié)構(gòu),厚度為200~300nm,厚度延伸方向與襯底的傾斜方向的夾角為5~15°。本發(fā)明可以有效地避免紫外強激光對化學(xué)鍵的選擇破壞而造成的優(yōu)先濺射問題。其制備方法可生長得到致密且結(jié)晶度良好的氧化鈦薄膜,制備的激光探測器具有探測波段寬,響應(yīng)速度快,靈敏度高的優(yōu)點,并且能抗紫外強激光輻照。
聲明:
“氧化鈦薄膜激光探測器及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)