一種用于化學(xué)機(jī)械拋光的裝置包括支撐件和電磁感應(yīng)監(jiān)測(cè)系統(tǒng),所述支撐件用于具有拋光表面的拋光墊,所述電磁感應(yīng)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)產(chǎn)生磁場以監(jiān)測(cè)拋光墊正在拋光的基板。電磁感應(yīng)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)包括芯和繞所述芯的一部分卷繞的線圈。芯包括后部、中心柱和環(huán)形邊緣,所述中心柱在與所述拋光表面正交的第一方向上從所述后部延伸,所述環(huán)形邊緣平行于所述中心柱地從所述后部延伸并且所述環(huán)形邊緣圍繞所述中心柱且與所述中心柱以一間隙間隔開。所述間隙的寬度小于所述中心柱的寬度,且所述環(huán)形邊緣的頂表面的表面積比所述中心柱的頂表面的表面積大至少兩倍。
聲明:
“用于原位電磁感應(yīng)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)的芯配置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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