本發(fā)明是一種鋯鈦酸鉛薄膜紅外熱成像探測器 懸空結(jié)構(gòu)的制作方法,采用在硅片上鍍制一定厚度的氧化鎂薄 膜作為制作鋯鈦酸鉛薄膜非致冷焦平面紅外熱成像探測器懸 空結(jié)構(gòu)的犧牲層,并通過控制犧牲層的厚度來控制懸空高度; 采用等離子體增強化學(xué)氣相沉積方法制作 SiNx,用于平衡鋯鈦酸鉛薄膜的 應(yīng)力;應(yīng)用快速熱處理方法對共電極Ti/Pt以及鋯鈦酸鉛敏感 薄膜進行快速熱處理,獲得高性能的鋯鈦酸鉛薄膜。本發(fā)明主 要解決了犧牲層材料的去除方法簡單,并與其他結(jié)構(gòu)之間的相 容性好、在快速熱處理時對讀出電路的保護以及探測器的懸空 部分與基片連接的問題,滿足了工業(yè)生產(chǎn)的客觀需要。
聲明:
“鋯鈦酸鉛薄膜紅外熱成像探測器懸空結(jié)構(gòu)的制作方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)