本發(fā)明公開了一種可余輝光監(jiān)測緩釋抗菌的鍺酸鋅基質(zhì)納米材料及其制備方法，屬于抗菌納米材料制備領(lǐng)域。本發(fā)明所述鍺酸鋅基質(zhì)抗菌納米材料的化學(xué)組成通式為Zn2GeO4:xM，0.001≤x≤0.02，其中，Zn2GeO4為基質(zhì)，M為具有抗菌作用的金屬離子。本發(fā)明中的鍺酸鋅基質(zhì)抗菌納米材料經(jīng)水熱法合成，制備簡單，成本低，可用于工業(yè)化生產(chǎn)；材料在細(xì)菌感染部位具有優(yōu)異的廣譜抗菌性能，金屬離子緩釋可以長期維持較高的抗菌濃度，抗菌周期長，誘導(dǎo)細(xì)菌產(chǎn)生耐藥性的可能性極?。辉诩?xì)菌感染部位微酸性環(huán)境中，材料的余輝光強度隨著材料的降解變化，利用其余輝光強度變化可以實現(xiàn)感染部位抗菌過程的實時監(jiān)測。