一種有序納米孔
氧化鋁模板光學(xué)常數(shù)的測試方法,利用二次
電化學(xué)方法腐蝕高純鋁片生成的各種厚度和納米孔徑的有序納米孔氧化
鋁模板,測量有序納米孔氧化鋁模板的透射光譜,通過修正過的四層介質(zhì)模型擬合透射光譜中的干涉條紋,得出氧化鋁模板的納米孔深、阻礙層厚度以及隨波長變化的折射率,利用吸收系數(shù)公式擬合透射光譜中接近帶隙的吸收邊,得出有序納米孔氧化鋁模板的能帶的帶隙和帶尾。本發(fā)明有效地利用簡單的光學(xué)方法,準(zhǔn)確獲取這些常數(shù)數(shù)值。
聲明:
“有序納米孔氧化鋁模板光學(xué)常數(shù)的測試方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)