本發(fā)明適用于金屬有機物化學(xué)氣相沉積領(lǐng)域,公開了MOCVD反應(yīng)室壓力控制系統(tǒng)即壓力控制方法,其中MOCVD反應(yīng)室壓力控制系統(tǒng),包括壓力檢測單元、分析單元和執(zhí)行模組,執(zhí)行模組包括均與反應(yīng)室連通的進氣單元和尾氣單元,尾氣單元包括至少兩組排氣組件,每組排氣組件均包括與反應(yīng)室連通的排氣管路、與排氣管路連接的泵體、以及設(shè)置在排氣管路與泵體之間的調(diào)節(jié)閥,壓力檢測單元用于檢測反應(yīng)室的實時壓力,MOCVD反應(yīng)室壓力控制系統(tǒng)通過控制進氣單元是否參與工藝運行過程以及通過控制尾氣單元哪組排氣組件參與工藝運行過程來使反應(yīng)室的實時壓力與設(shè)定壓力基本保持一致,從而為反應(yīng)室提供穩(wěn)定的氣場流,進而提高外延材料的厚度和組分均勻性。
聲明:
“MOCVD反應(yīng)室壓力控制系統(tǒng)及壓力控制方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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