在目標(biāo)變量分析部(11)根據(jù)單體單元的共聚合反應(yīng)性比算出已知共聚物樣本的組成中單體單元的三元組分?jǐn)?shù)從而求得目標(biāo)變量,在波形處理部(12)進(jìn)行NMR測定以及信號等的處理,在解釋變量分析部(13)根據(jù)該已知樣本的NMR測定中化學(xué)位移量以及信號強(qiáng)度得出解釋變量,在模型建立部(14)根據(jù)偏最小二乘回歸求得目標(biāo)變量和解釋變量的回歸模型的回歸式,求得回歸模型的因子,在樣本解析部(15)用所述回歸模型,根據(jù)未知樣本共聚物的NMR測定中的化學(xué)位移量和信號強(qiáng)度,用算出該未知樣本中三元組分?jǐn)?shù)的方法算出。通過使用這樣得到的三元組分?jǐn)?shù)的合計是共聚物中20摩爾%以下的光刻技術(shù)用共聚物,能夠制備溶解性以及靈敏度優(yōu)異的抗蝕劑組合物。
聲明:
“光刻技術(shù)用共聚物及其制造方法,抗蝕劑組合物,形成圖案的基板的制造方法,共聚物的評價方法,共聚物組成解析方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)