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高質(zhì)量的拓?fù)浒虢饘買nBi生長方法

910   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 07:31:49
本發(fā)明公開了一種利用高溫回轉(zhuǎn)爐生長高質(zhì)量拓?fù)浒虢饘買nBi單晶的方法,塊體是In、Bi元素以1:1化學(xué)計(jì)量比形成的化合物,是具有第二類狄拉克點(diǎn)的拓?fù)浒虢饘俨牧希ㄟ^低場(chǎng)磁輸運(yùn)測(cè)試,塊體單晶具有大的載流子濃度1018cm?3和高遷移率,14T未飽和磁阻MR的值到達(dá)12000%,低溫1.5K、高場(chǎng)60T出項(xiàng)明顯振蕩;同時(shí)角分辨光電子能譜(ARPES)和X射線衍射光譜儀(XRD)的表征,證明了其很高的質(zhì)量,ARPES分析在ΓXΓ和MXM方向上發(fā)現(xiàn)2條nodal?line。制備方法是高溫融合后,以1℃/min的速率緩慢降溫至室溫結(jié)晶形成大塊單晶,所獲得的單晶表征ARPES和XRD信號(hào)均與文獻(xiàn)記載相吻合,確定為高質(zhì)量的塊體,同時(shí)材料制備參數(shù)易調(diào)整,設(shè)備簡(jiǎn)單,易操作,生長過程可控,工藝重復(fù)性好,具有較高的制備效率。
聲明:
“高質(zhì)量的拓?fù)浒虢饘買nBi生長方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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