本發(fā)明公開(kāi)了一種能保證在濺射工藝過(guò)程中有效起輝放電濺射的氧化鈮濺射靶材的制備方法,包括如下步驟:原料造粒:取純度不低于99.99%的五氧化二鈮粉末原料投于造粒設(shè)備中球化造粒;高溫脫氧噴涂:將原料造粒步驟中所得原料裝入供粉箱,將原料通過(guò)管道輸送至低壓高溫等離子噴涂槍焰體內(nèi),原料被高溫等離子焰瞬間熔化成液滴狀,被高速焰流噴涂到靶材基管表面,噴涂沉積到預(yù)定厚度;等離子焰溫度為15000~20000°C,焰流速度>150m/s,在無(wú)氧高溫的等離子焰體中,原料中的一部分氧鍵被均勻的脫去,通過(guò)XRD對(duì)靶材進(jìn)行分析所得靶材的化學(xué)分子式為Nb2O4.9,采用四探針電阻儀測(cè)試所得靶材電阻率為0.06Ω·cm。
聲明:
“氧化鈮濺射靶材的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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