本發(fā)明提供一種晶圓清潔系統(tǒng),包括存儲(chǔ)罐、清洗室和回收罐,所述儲(chǔ)液罐通過(guò)第一管道連接所述清洗室頂部,所述清洗室內(nèi)設(shè)有隔離板,所述隔離板用于將所述清洗室分為上部和下部,所述回收罐通過(guò)第二管道和第三管道分別連通所述清洗室的上部和下部;所述隔離板上開(kāi)設(shè)通槽,半導(dǎo)體晶圓收容在所述通槽內(nèi);干凈的化學(xué)洗劑從所述清洗室的頂部流入以清洗半導(dǎo)體晶圓的上表面,使用過(guò)的化學(xué)洗劑從所述第二管道流入所述回收罐;所述晶圓清潔系統(tǒng)還包括濃度檢測(cè)器,用于檢測(cè)所述回收罐內(nèi)液體的有效成分濃度,若所述濃度檢測(cè)器的檢測(cè)結(jié)果大于或等于一預(yù)設(shè)值,所述回收罐內(nèi)的化學(xué)洗劑從所述第三管道流入所述清洗室下部以清洗所述晶圓的下表面。
聲明:
“晶圓清潔系統(tǒng)” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專(zhuān)利(論文)的發(fā)明人(作者)