本發(fā)明公開了一種半導(dǎo)體清洗液管理裝置,包括:儲液單元,用于儲存清洗液;濃度液位檢測單元,用于檢測所述儲液單元中清洗液的濃度及液位,并將檢測到的濃度數(shù)據(jù)及液位數(shù)據(jù)傳輸給所述控制單元;控制單元,用于根據(jù)所述濃度數(shù)據(jù)及液位數(shù)據(jù)生成相應(yīng)的控制信號,并將所述控制信號發(fā)送給所述執(zhí)行單元;執(zhí)行單元,用于根據(jù)所述控制信號執(zhí)行所述儲液單元的清洗液的排放、補(bǔ)充所述儲液單元的化學(xué)藥劑、補(bǔ)充所述儲液單元的水、更換所述儲液單元的清洗液、回收反應(yīng)腔體的清洗液、以及供液給反應(yīng)腔體的動作。本發(fā)明通過與反應(yīng)腔體控制裝置的結(jié)合,實(shí)現(xiàn)了對清洗液進(jìn)行自動管理,并實(shí)現(xiàn)了在沒有技術(shù)人員對清洗液進(jìn)行管理的情況下,持續(xù)的進(jìn)行清洗工藝。
聲明:
“半導(dǎo)體清洗液管理裝置及方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)