本發(fā)明公開了一種有機(jī)發(fā)光顯示器蒸鍍用掩膜的電鑄制作方法,依次有以下步驟:芯模準(zhǔn)備→芯模前處理→貼膜→曝光→顯影→除油→水洗,其特征在于:還依次有以下后續(xù)步驟:活化/鈍化→水洗→電鑄掩膜→水洗→褪膜→剝膜→絲網(wǎng)粘接→成品檢測→成品包裝。本發(fā)明采用電鑄技術(shù)可以制作厚度在0.05mm以下的OLED蒸鍍用高精度掩膜,由于是基于應(yīng)用
電化學(xué)的電沉積原理,通過在芯模上電沉積某一金屬或合金,因此掩膜板開孔均勻一致,孔壁光滑無毛刺,無側(cè)向腐蝕,有利于發(fā)光材料完全轉(zhuǎn)移到ITO表面,顯著提高制品精度,開孔公差達(dá)到±0.005mm,幅面為370mm×470mm的掩膜板的孔間位置公差僅為±0.008mm。
聲明:
“有機(jī)發(fā)光顯示器蒸鍍用掩膜的電鑄制作方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)