本發(fā)明涉及一種可用于功率場(chǎng)空間分布精細(xì)控制的基臺(tái)及控制方法，屬于化學(xué)氣相沉積技術(shù)領(lǐng)域。在基臺(tái)金屬基底上設(shè)置若干個(gè)絕緣層，絕緣層將基臺(tái)金屬基底分成不同直徑的環(huán)形或扇形區(qū)域；在基臺(tái)金屬基底內(nèi)部、各絕緣層分隔的環(huán)形或扇形區(qū)域內(nèi)，分別設(shè)置若干個(gè)可調(diào)電阻電容和阻抗檢測(cè)單元；可調(diào)電阻電容用于對(duì)功率場(chǎng)空間分布進(jìn)行調(diào)節(jié)，阻抗檢測(cè)單元用于對(duì)該區(qū)域功率空間分布進(jìn)行檢測(cè)；控制模塊能夠?qū)β士臻g分布進(jìn)行精準(zhǔn)控制，使其逼近預(yù)期功率空間分布要求。通過(guò)絕緣層，減小相鄰區(qū)域間的導(dǎo)電性，使得不同區(qū)域間的控制更加獨(dú)立。進(jìn)而通過(guò)在不同區(qū)域設(shè)置獨(dú)立可控的功率調(diào)節(jié)裝置，實(shí)現(xiàn)對(duì)功率場(chǎng)空間分布具有靈活和精細(xì)化的調(diào)控能力。