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基于反應回滯曲線制備TiN涂層的控制方法

1120 編輯：管理員來源：中冶有色技術網(wǎng)

2023-03-19 07:45:51

本發(fā)明公開了一種基于反應回滯曲線制備TiN涂層的控制方法，包括采用高功率脈沖磁控濺射技術，以Ti金屬單質(zhì)靶為金屬靶，N2作為反應氣體，基于反應氣體通入流量先增加后減小測量金屬靶放電電壓，完成對反應氣體通入流量的最小二乘法回歸擬合，橫坐標為檢測點的反應氣體流量，縱坐標為檢測點的放電電壓，擬合出“反應氣體流量?放電靶電壓”反應回滯曲線；在反應氣體流量上升和下降過程中，同一個氣體流量對應的放電電壓的差值達到電壓差閾值的區(qū)域作為反應回滯曲線的過渡區(qū)域，在過渡區(qū)域選擇反應氣體的通入流量，實現(xiàn)在基底表面沉積TiN涂層的化學計量比和制備速率的控制。利用該方法能夠簡單、高效選取制備參數(shù)，以高速率穩(wěn)定制備TiN涂層。

聲明：

“基于反應回滯曲線制備TiN涂層的控制方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)