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基于自摻雜調(diào)控晶面暴露的鈦鈮酸鉍納米片及制備方法

1074   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:01:30
本發(fā)明公開了一種基于自摻雜調(diào)控晶面暴露的鈦鈮酸鉍納米片及制備方法,首先按照化學式Bi3TixNb2?xO9將分析純的Bi2O3、TiO2、Nb2O5以及一定比例的鹽通過球磨混合均勻并干燥,然后將干燥的粉體進行焙燒,得到塊狀固體;然后將塊狀固體用去離子水洗滌,最后烘干得到自摻雜Bi3TiNbO9納米片。通過調(diào)控Ti和Nb原子比來調(diào)控晶面暴露的暴露比例。本發(fā)明制備工藝簡單易行,反應(yīng)溫度低,反應(yīng)時間短,材料成本低,適合產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn),利用本發(fā)明的方法得到的Bi3TixNb2?xO9光催化劑,光生載流子分離效率高,具有優(yōu)異的光催化降解染料的性能。
聲明:
“基于自摻雜調(diào)控晶面暴露的鈦鈮酸鉍納米片及制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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