本發(fā)明提供了一種在氮化鋁基底上生長(zhǎng)低粗糙度金剛石薄膜的制備方法。該方法是在熱絲化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)中采用循環(huán)沉積氣壓的方法在氮化鋁基底上生長(zhǎng)低粗糙度的微晶金剛石薄膜,具有較高的穩(wěn)定性、耐蝕性,具有相對(duì)低的表面粗糙度;使其有望用于波導(dǎo)器件中減少光的散射損失,增強(qiáng)檢測(cè)精度,對(duì)于制備金剛石薄膜基波導(dǎo)器件有重要的應(yīng)用價(jià)值。
聲明:
“氮化鋁基底上的低粗糙度微晶金剛石薄膜及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)