本發(fā)明公開了一種基于半導(dǎo)體聚合物量子點(diǎn)顯現(xiàn)潛在指紋并使其能長久無損保存的方法。該方法首次采用熒光聚合物量子點(diǎn)為熒光標(biāo)記物,利用靜電吸附或者親疏水或者范德華作用,與遺留在客體上的潛在指紋的有機(jī)類物質(zhì)結(jié)合。然后,在光引發(fā)條件下固化形成穩(wěn)定的共價鍵三維網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu),交聯(lián)后的聚合物量子點(diǎn)不溶不熔,物理化學(xué)性能穩(wěn)定,使其能永久保存。最后,通過紫外光激發(fā),使其與基底顏色形成反差,顯現(xiàn)出能清晰反映指紋紋線的熒光圖案。該方法簡便、快速、準(zhǔn)確、無損、穩(wěn)定且無毒環(huán)保。既保持了潛指紋顯現(xiàn)高靈敏度,還解決了實際應(yīng)用中證物難以長時間保持的問題,在指紋檢測及長時間無損保存、防偽等領(lǐng)域都有巨大的應(yīng)用前景。
聲明:
“基于半導(dǎo)體聚合物量子點(diǎn)顯現(xiàn)和保存潛在指紋的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)