本發(fā)明公開了一種復(fù)合分子印跡材料及其制備方法和碳糊電極。該復(fù)合分子印跡材料的制備方法包括:投料:將4?乙烯基吡啶與模板分子充分混合后靜置反應(yīng),再加入交聯(lián)劑、引發(fā)劑、有機(jī)溶劑,混合后得到混合溶液;反應(yīng):將混合溶液脫氣并去除溶解氧后,在惰性氣體保護(hù)及密封條件下聚合反應(yīng),得到聚合物;洗脫:將模板分子洗脫后,得到所述復(fù)合分子印跡材料。本發(fā)明采用新型的材料和技術(shù)路線,經(jīng)過簡單的合成步驟,得到一種高效、精確的新型分子印跡碳糊電極。該新型復(fù)合碳糊電極經(jīng)
電化學(xué)實(shí)驗(yàn),結(jié)果表明其對模板分子檢測限可達(dá)3×10
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聲明:
“復(fù)合分子印跡材料及其制備方法和碳糊電極” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)