本發(fā)明公開了高光學(xué)純度阿法替尼晶型的制備方法,工藝過程簡潔,采用4?羥基?6?氨基?7?[(S)?(四氫呋喃?3?基)氧基]喹唑啉和4?(N,N?二甲基氨基)?2?丁烯酰氯為起始原料制備高光學(xué)純度阿法替尼,經(jīng)濟環(huán)保,質(zhì)量可控,制備過程中的中間產(chǎn)物均不需要柱層析,制備過程不產(chǎn)生難以去除的雜質(zhì),制得的高光學(xué)純度阿法替尼化學(xué)純度經(jīng)高效液相檢測達到99.4%以上,最后通過毛細管法得到的高光學(xué)純度阿法替尼晶型,大大提高了高光學(xué)純度阿法替尼晶型產(chǎn)品的質(zhì)量。 1
聲明:
“高光學(xué)純度阿法替尼晶型的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)