本實用新型涉及化學(xué)機械拋光后處理技術(shù)領(lǐng)域,公開了一種基板處理液的存儲裝置和基板后處理設(shè)備?;搴筇幚碓O(shè)備包括基板清洗模塊和基板干燥模塊,基板干燥模塊包括存儲裝置。存儲裝置包括存儲主體、第一管路、第二管路和第三管路,存儲主體具有分別與管路氣密連接的第一連接口、第二連接口和第三連接口;第一管路用于向存儲主體內(nèi)通入氣體以增加存儲主體內(nèi)的壓力;第二管路氣密連接于壓力檢測部;第三管路氣密連接于處理液供給管和排出管,供給管和排出管分別設(shè)置有獨立的開關(guān)組件,使得可以通過第三管路向存儲主體內(nèi)加入處理液或從存儲主體排出處理液。
聲明:
“基板處理液的存儲裝置和基板后處理設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)