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OSP基板的蝕刻清洗設備及方法

852 編輯：管理員來源：中冶有色技術網(wǎng)

2023-03-19 08:13:35

本發(fā)明公開了一種OSP基板的蝕刻清洗方法，包括以下步驟：第一步驟：將H2SO4溶劑、H2O2溶劑、添加劑AGS2116，添加劑AGS2115，純水進行混合，將按比例混合好的化學藥劑添加于蝕刻清洗設備腔內；第二步驟：OSP基板通過蝕刻清洗設備軌道依次進入蝕刻噴淋室和清洗噴淋室；第三步驟：蝕刻噴淋室完成對OSP基板的蝕刻，清洗噴淋室完成對OSP基板的清洗；第四步驟：檢查蝕刻效果，確認OSP層與氧化層是否從焊盤被蝕刻掉。本發(fā)明還提供了一種OSP基板的蝕刻清洗設備，本發(fā)明的化學藥劑蝕刻效果好，蝕刻更均勻。通過蝕刻裝置將H2SO4、H2O2等化學藥劑分開，用時根據(jù)現(xiàn)場生產(chǎn)情況和OSP基板的實際情況，隨時控制配比，進而控制蝕刻值的大小，操作方便，效率高。

聲明：

“OSP基板的蝕刻清洗設備及方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)