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用于減少光學(xué)基片反射的涂層、方法和設(shè)備

1094   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:13:36
描述了一種對(duì)光學(xué)基片涂敷減反射(AR)涂層的方法。該涂層的厚度和成分,可通過(guò)將對(duì)于與人的視覺(jué)系統(tǒng)靈敏度成角度相關(guān)和成波長(zhǎng)相關(guān)的涂層的菲涅爾反射系數(shù)之積減至最小來(lái)確定,以將此涂敷制品感知的反射率減至最小。帶有化學(xué)惰性氣體如氬和氮的緊湊的反應(yīng)室被抽真空并沖入化學(xué)惰性氣體,例如氬或氮。一或多個(gè)分子組成的先質(zhì)通過(guò)等離子體增強(qiáng)的化學(xué)氣相沉積(PECVD)進(jìn)行沉積,以形成減反射薄膜。基于被控制厚度的含氟聚合物薄膜的單層減反射涂層以及有機(jī)、有機(jī)硅的和或無(wú)機(jī)多涂層被描述。也被提供的是使用偏振發(fā)光二極管、偏振光學(xué)濾光片和光電二極管的光學(xué)監(jiān)測(cè)薄膜生長(zhǎng)的方法。來(lái)自監(jiān)測(cè)器的反饋被用于控制先質(zhì)流量,以預(yù)定的減反射特性產(chǎn)生單涂層和多涂層。
聲明:
“用于減少光學(xué)基片反射的涂層、方法和設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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