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模擬垢下腐蝕的雙電解池及應(yīng)用

938   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:13:39
本發(fā)明公開了一種垢下腐蝕電化學(xué)參數(shù)的測試技術(shù)及其專用子母配套雙電解池。該電解池裝置包括有機(jī)玻璃雙電解池、工作電極、輔助電極、參比電極和離子擴(kuò)散通道。有機(jī)玻璃雙電解池由外電解池和內(nèi)電解池組成;外電解池為敞開體系,有通氣孔,用于本體溶液陰極區(qū)測量;內(nèi)電解池為密閉裝置,用于垢層下閉塞微環(huán)境的陽極區(qū)測量。工作電極、輔助電極和參比電極通過電解池頂蓋上的橡膠塞固定,用于電化學(xué)參數(shù)的測量。離子擴(kuò)散通道是連接內(nèi)外電解池的有機(jī)玻璃通道,在通道中填充腐蝕垢層用于模擬真實垢層環(huán)境,并實現(xiàn)垢層內(nèi)外離子的交換;擴(kuò)散通道通過栓塞固定。該電解池便于垢下腐蝕的各項電化學(xué)參數(shù)的測量、可以較為準(zhǔn)確地模擬垢層內(nèi)、外的腐蝕環(huán)境,獲取垢下腐蝕過程的信息及其動態(tài)變化。
聲明:
“模擬垢下腐蝕的雙電解池及應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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