描述用于修補(bǔ)具有底切蝕刻的APSM掩模的方法。利用原子力顯微鏡的針尖來(lái)移除板上的缺陷上方的吸收層以及板上的缺陷的第一部分。利用電子束誘導(dǎo)蝕刻來(lái)移除缺陷的第二部分,該電子束誘導(dǎo)蝕刻包括:在缺陷的第二部分上方引入第一氣體以便形成用于蝕刻缺陷的第一化學(xué)物;以及停留電子束。利用電子束誘導(dǎo)沉積法來(lái)在板上重建具有懸垂結(jié)構(gòu)的吸收層。在板上方引入第二氣體以便形成用于在板上形成不透明材料的第二化學(xué)物。使電子束停留預(yù)定時(shí)間以便誘導(dǎo)在板上形成該不透明材料。對(duì)于一個(gè)實(shí)施例,測(cè)量缺陷的輪廓以便控制蝕刻。
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“用于修補(bǔ)交替相移掩模的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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