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淺溝渠隔離結(jié)構(gòu)的制造方法

764   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:14:37
一種淺溝渠隔離結(jié)構(gòu)的制造方法,于一基底上依序形成墊氧化層、罩幕層、介電抗反射涂布層與頂蓋氧化層,然后于基底中形成一溝渠。接著,再于溝渠表面形成襯氧化層,且于基底上形成絕緣層并填滿溝渠。隨后以罩幕層作為研磨終點(diǎn),以使用光學(xué)終點(diǎn)偵測(cè)系統(tǒng)作終點(diǎn)偵測(cè)的化學(xué)機(jī)械研磨制作工藝去除罩幕層上的絕緣層、介電抗反射涂布層與頂蓋氧化層,其中罩幕層的厚度控制在第一固定范圍,且介電抗反射涂布層的厚度控制在第二固定范圍,使得光學(xué)終點(diǎn)偵測(cè)系統(tǒng)所使用的光源可以產(chǎn)生具有最大的反射光信號(hào)。然后再去除罩幕層與墊氧化層。
聲明:
“淺溝渠隔離結(jié)構(gòu)的制造方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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