一種納米級(jí)銀針尖的高重現(xiàn)性制備方法,涉及STM?TERS銀針尖的
電化學(xué)刻蝕制備方法。1)待刻蝕銀絲前處理:刻蝕用銀絲在使用前需要用硼氫化鈉溶液浸泡,以除去表面氧化層;2)電化學(xué)刻蝕裝置選擇:刻蝕裝置選用兩電極體系和三電極體系;3)銀絲的電化學(xué)刻蝕:選擇合適的刻蝕劑和刻蝕條件對(duì)銀絲進(jìn)行電化學(xué)刻蝕,到達(dá)刻蝕終點(diǎn)時(shí)及時(shí)切斷電路,銀絲末端形成尖銳光滑的針尖,即得納米級(jí)銀針尖。硫氰酸鉀刻蝕劑無(wú)毒無(wú)害,制備的納米級(jí)銀針尖表面光滑,末端尖銳,納米級(jí)銀針尖的曲率半徑在100nm以下,具有STM?TERS增強(qiáng)活性。不僅可用于STM成像,還可用于TERS測(cè)試,具有高成像質(zhì)量和高TERS活性。
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