描述一種圖案化過程建模方法。所述方法包括:利用過程模型的前端確定與圖案化過程流程內(nèi)的操作的過程物理學(xué)和/或過程化學(xué)相關(guān)聯(lián)的函數(shù);和利用所述過程模型的后端確定所述預(yù)測的晶片幾何形狀。所述后端包括所述晶片上的目標(biāo)區(qū)域的體積表示。通過應(yīng)用來自所述前端的所述函數(shù)以操控所述晶片的所述體積表示來確定所述預(yù)測的晶片幾何形狀。可以使用體積動態(tài)B樹產(chǎn)生所述晶片的所述體積表示??梢允褂盟郊戏椒▉聿倏厮鼍乃鲶w積表示。與所述圖案化過程流程內(nèi)的所述操作的過程物理學(xué)和/或過程化學(xué)相關(guān)聯(lián)的所述函數(shù)可以是速度/速率函數(shù)??梢允褂蒙渚€追蹤來確定所述晶片的模型化表面上的入射通量。
聲明:
“用于圖案化過程建模的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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