一種用于調(diào)節(jié)被用于在半導(dǎo)體基片上化學(xué)汽相淀積材料層的桶形反應(yīng)器的清洗系統(tǒng)的方法,包括在多個清洗管道的每一個中放置旋轉(zhuǎn)式流量計和可調(diào)節(jié)的流量控制閥門。監(jiān)測管道中清洗氣體的流速和調(diào)節(jié)閥門保證氣流都向桶形反應(yīng)器的方向流動,使得不發(fā)生反應(yīng)氣體被吸入清洗系統(tǒng)的虹吸效應(yīng)。桶形反應(yīng)器中氧氣的存在也得到了監(jiān)測,且調(diào)節(jié)流速減少以氧氣的存在。調(diào)節(jié)流速以保證在一個化學(xué)汽相淀積周期完成之后從桶形反應(yīng)器中完全清除反應(yīng)氣體。降低淀積材料層中金屬沾污程度得以實(shí)現(xiàn)。
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“調(diào)節(jié)桶形反應(yīng)器清洗系統(tǒng)的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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