本發(fā)明涉及一種采用無機(jī)鹽對單層過渡金屬硫化物(TMDCs)材料表面處理來提高其發(fā)光性能的方法,屬于二維材料發(fā)光領(lǐng)域;該方法主要由化學(xué)氣相沉積法或機(jī)械剝離制備單層TMDCs材料和滴涂法對單層TMDCs進(jìn)行表面化學(xué)鹽溶液修飾兩部分組成;其原理是:無機(jī)鹽中的陰離子與單層TMDCs材料表面存在的懸鍵結(jié)合成化學(xué)鍵,修補(bǔ)了單層TMDCs材料表面本身存在的結(jié)構(gòu)缺陷,減少了材料內(nèi)部的非輻射復(fù)合中心,改善了單層TMDCs材料的發(fā)光性能;本發(fā)明通過無機(jī)鹽類對單層TMDCs材料進(jìn)行表面處理調(diào)節(jié)了材料本身的發(fā)光機(jī)制,提高了其發(fā)光強(qiáng)度并使發(fā)光強(qiáng)度的空間分布變得均勻,填補(bǔ)了無機(jī)鹽類來改善單層TMDCs材料發(fā)光性能的空白;本發(fā)明可廣泛應(yīng)用于單層TMDCs材料光電探測器等納米光電子領(lǐng)域。
聲明:
“提高單層過渡金屬硫化物材料發(fā)光性能的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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